Cadence y Samsung aceleran el silicio de señal mixta de 3 nm

Actualización: 9 de septiembre de 2021

Cadence y Samsung aceleran el silicio de señal mixta de 3 nm

Cadence y Samsung aceleran el silicio de señal mixta de 3 nm

Cadence Design Systems, en colaboración con Samsung Foundry, ha entregado un kit de diseño de procesos (PDK) calificado listo para OpenAccess de señal mixta la tecnología archivos que admiten una variedad de tecnologías de proceso Samsung desde 28FDS hasta GAA base 3 nm.

El PDK de señal mixta listo para OpenAccess permitirá a los clientes mutuos de las empresas acelerar su tiempo de comercialización al garantizar que las herramientas de diseño digital y personalizadas de Cadence calificadas interoperen en varias tecnologías de proceso de Samsung. El PDK preparado para OpenAccess de señal mixta mejora la productividad de los diseños de señal mixta utilizados en centros de datos, redes, 5G, aplicaciones móviles, industriales y automotrices.

Las herramientas digitales Cadence incluidas con las tecnologías de proceso OpenAccess PDK de señal mixta para Samsung son el sistema de implementación Innovus, la solución Genus Synthesis, Liberate Characterization Suite, Tempus Timing Signoff Solution, Voltus IC Power Integrity Solution, Quantus Extraction Solution, Physical Verification System, Tempus Solución de cierre de tiempo, solución de integridad de energía personalizada Voltus-Fi y analizador lito físico.

Las herramientas personalizadas de Cadence incluidas en el PDK son Virtuoso ADE Product Suite, Virtuoso Schematic Editor, Virtuoso Layout Suite, Virtuoso Layout Suite Electrically Aware Design (EAD), Spectre X Simulator y LDE Electrical Analyzer.

Al utilizar el PDK de señal mixta listo para OpenAccess con las plataformas Virtuoso e Innovus, los clientes podrán acceder a diseños de señal mixta en una base de datos común de OpenAccess. Esta metodología de co-diseño promueve responsabilidades compartidas y la colaboración entre los equipos analógicos y digitales para la planificación, diseño, implementación, verificación física y aprobación de chips, mejorando la productividad general y aumentando el rendimiento del diseño.

El PDK preparado para OpenAccess de señal mixta permite el uso de los flujos, que ofrecen:

  • Planificación de piso avanzada y optimización de pines: Los usuarios pueden planificar previamente las partes analógicas sensibles del diseño utilizando la ubicación basada en restricciones en la plataforma Virtuoso, y luego abrir el mismo diseño en el sistema Innovus para la ubicación de bloques digitales basada en el tiempo. Los usuarios pueden arreglar la ubicación de los pines o moverlos en cualquiera de las herramientas para optimizar el enrutamiento.
  • Potentes capacidades de enrutamiento de bloques y chips: Los usuarios pueden enrutar redes analógicas sensibles utilizando herramientas de diseño personalizadas y terminar el resto utilizando un enrutador rápido controlado por tiempo con detección de hotspot DFM en diseño y reparación automatizada para cumplir con los requisitos obligatorios de aprobación de DFM.
  • Análisis de tiempo estático mejorado (STA): Las soluciones Innovus y Tempus reconocen automáticamente las celdas lógicas en la ruta de sincronización en el diseño de señal mixta y realizan análisis de sincronización mientras ignoran los circuitos analógicos que no afectan la sincronización.
  • Análisis EM-IR mejorado: Permite un análisis de caída de IR por electromigración (EM-IR) más rápido para diseños de señal mixta a través de un nuevo enfoque jerárquico.

“En colaboración con Samsung, hemos desarrollado un PDK OpenAccess de señal mixta que permite a los clientes crear diseños de señal mixta para aplicaciones emergentes de manera más efectiva”, dijo Michael Jackson, vicepresidente corporativo de I + D en Digital & Signoff Group en Cadence. "Con este nuevo PDK, los clientes pueden aprovechar las herramientas digitales y personalizadas de Cadence y las tecnologías de proceso de Samsung para lograr una potencia, un rendimiento y un área mejorados, y entregar con éxito nuevos diseños dentro de los estrechos márgenes de mercado".