シリコンベースとして テクノロジー クイーンズランド大学の研究者が開発したこの材料は、その絶対的な限界に達すると、より多くのメモリ、より高速な速度、高度な機能を備えた次世代エレクトロニクスの到来を告げる可能性があります。
この炭素ベースの材料は、162年までに2027億ドルの価値があると予測される成長するナノエレクトロニクス市場に貢献する可能性がある。
UQ教授のオーストラリア生物工学・ナノテクノロジー研究所（AIBN）と化学・分子生物科学大学院（SCMB）は、潜在的な用途には電気通信、自動アクセスシステム、医療機器が含まれると述べた。
グラフェンは、機械的強度が高く、電気伝導性と熱伝導性が高いため、エレクトロニクス用途に有望な材料と長い間考えられてきましたが、限界もあります。
研究チームは、ハニカムパターンのグラフェンのXNUMX層に窒素原子が含まれる材料を設計し、層をずらしたりねじったりする実験を行った。
「この資料は、C3N 二重層 - ナノスケールエレクトロニクスの機能を拡張する可能性があり、より小さな領域でより多くの機能が可能になります。
層の配置を変えると、さまざまなデバイスに合わせて電気の流れを調整できるようになりますが、これはグラフェンだけでは不可能です。
研究者によると、この新しい構造により、冷蔵庫やスマートウォッチなど多様な要件や機能を備えた電子機器を製造するために組み合わせることができるさまざまな電子部品の製造が可能になったという。
これは、理論的予測と実験研究を組み合わせて新しいものを開発するため、エキサイティングです。 デバイス コンピュータのメモリやフレキシブルエレクトロニクスなどの多くの用途に使用できる可能性があります。
研究は重要な一歩でしたが、材料をより容易に低コストで製造するにはさらに多くの作業が必要でした。
