X-Fabは、UVから近赤外までの180nmプロセスにフォトダイオードを追加します

新しいものを通して モジュール、顧客は、紫外から近赤外までの波長をカバーする XNUMX つの異なるフォトダイオード オプションにアクセスできます。

フォトダイオードの中で、40％の量子効率がUVAバンドで利用可能であり、UVBで50-60％、UVCで> 60％が利用可能です。

同社によれば、「近赤外線に関しては、パフォーマンスの大幅な向上も見られました」とのことです。 「850nmでは、フォトダイオードは元のXH17プロセスに基づくレガシーデバイスよりも018％高い量子効率を持ち、905nmでは5％の増加があります。 量子効率が約90％であるため、人間の目の応答オプションは周囲光検知アプリケーションに非常に適しています。」

その他の機能強化には、以前のXH10世代で作成されたデバイスと比較してフィルファクターが018％増加することが含まれます。

フォトダイオードの応答性は、ダイオード上の金属化層に形成されるアパーチャのサイズを指定することで製造中に設定できます。つまり、全電流と無電流の間でスケーリングします。 これは、後続の光フィルタリングを補正するため、または後続の増幅器を簡素化するために使用できます。たとえば、マルチダイオードアレイで使用できます。

「X-Fabは強力なオプトエレクトロニクスの資格情報を構築してきました」とX-FabvpマーケティングのLuigiDiCapuaは述べています。 「これの証拠の中には、世界中で製造された携帯電話の20％以上が、私たちが製造した環境光センサーを備えているという事実があります。 私たちが発表した進歩のおかげで、近接センシング、スペクトル分析、距離測定、三角測量測定ソリューションの需要に対応できるようになりました。」

X-Fabには、自動車、産業、消費者、医療向けのアナログ、ミックスドシグナル、MEMSファウンドリのほか、1.0µmから130nmまでのモジュラーCMOSおよびSOIプロセス、および炭化ケイ素があります。 ドイツ、フランス、マレーシア、米国に3,800つの生産施設があり、従業員数は約XNUMX人です。

X-FABは、018月15日木曜日に拡張XSXNUMXプロセスの詳細を説明する無料のウェビナーを開催します。 XNUMXつのセッションがあります。XNUMXつはアジアとヨーロッパの聴衆向けで、もうXNUMXつは南北アメリカ向けです。