IBM melancarkan teknologi cip 2nm pertama

IBM telah melancarkan kejayaan dalam Semikonduktor reka bentuk dan proses dengan pembangunan cip pertama di dunia dengan lembaran nano 2nm teknologi.

Menurut IBM, jika dibandingkan dengan proses 7nm, teknologi cip baru ini diproyeksikan mencapai prestasi 45 peratus lebih tinggi, atau penggunaan tenaga 75 peratus lebih rendah daripada cip simpul 7 nm yang paling maju sekarang ini.

Manfaat berpotensi dari cip 2nm canggih ini termasuk empat kali ganda hayat bateri telefon bimbit, dan pemangkasan jejak karbon pusat data, yang menyumbang satu persen penggunaan tenaga global.

Reka bentuk 2nm menunjukkan penskalaan semikonduktor maju menggunakan teknologi nanosheet IBM, yang membolehkan cip memuat 50 bilion transistor pada cip “ukuran kuku”.

2nm baharu semikonduktor “adalah produk pendekatan IBM dalam menghadapi cabaran teknologi keras dan demonstrasi bagaimana kejayaan boleh terhasil daripada pelaburan yang berterusan dan pendekatan ekosistem R&D kolaboratif,” kata Darío Gil, SVP dan Pengarah Penyelidikan IBM.