ขณะนี้ Cadence Design Systems, Inc. นำเสนอ Cadence EMX Designer ใหม่ ซึ่งเป็นการสังเคราะห์และเพิ่มประสิทธิภาพอุปกรณ์แบบพาสซีฟ เทคโนโลยี ที่ให้การตรวจสอบกฎการออกแบบ (DRC) ทำความสะอาดเซลล์พาราเมตริก (PCells) และแบบจำลองแม่เหล็กไฟฟ้า (EM) ที่แม่นยำของอุปกรณ์พาสซีฟ เช่น ตัวเหนี่ยวนำ หม้อแปลง ทีคอยล์ และอื่นๆ ในเสี้ยววินาที เมื่อรวมเข้ากับชุดผลิตภัณฑ์ Cadence Virtuoso ADE ได้อย่างราบรื่น โซลูชันนี้ให้เวลาการสังเคราะห์ที่เร็วขึ้นกว่า 10 เท่า พร้อมผลผลิตที่เพิ่มขึ้นอย่างเห็นได้ชัดเมื่อเทียบกับโซลูชันอื่นๆ
โซลูชันนี้ช่วยให้ลูกค้าสามารถสังเคราะห์อุปกรณ์แบบพาสซีฟที่ทำความสะอาด DRC ได้อย่างรวดเร็วเพียงกดปุ่มตามความต้องการทางไฟฟ้าและทางเรขาคณิต ด้วยความยืดหยุ่นที่เหนือชั้น PCells สามารถแก้ไขได้อย่างง่ายดายเพื่อตอบสนองความต้องการเค้าโครงที่แน่นอนของนักออกแบบ โดยใช้รายการตัวเลือกมากมายจากอินเทอร์เฟซที่ใช้งานง่ายภายในแพลตฟอร์ม Virtuoso เมื่อใช้งานกับ EMX 3D Planar Solver โซลูชันจะให้ความแม่นยำของแบบจำลองที่สร้างขึ้น การผสานรวมอย่างไร้รอยต่อกับแพลตฟอร์ม Virtuoso ทำให้ผู้ใช้มีตัวเลือกมากมายสำหรับการลงจุดและต่อท้ายผลลัพธ์
“pSemi ประเมินโซลูชัน Cadence EMX Designer เนื่องจากเราสนใจที่จะทำให้กระบวนการสร้างอุปกรณ์แบบพาสซีฟและการปรับให้เหมาะสมเป็นอัตโนมัติสำหรับ PDK ที่เป็นกรรมสิทธิ์ของเรา” จอห์น ซุง รองประธานฝ่ายโครงสร้างพื้นฐานทางวิศวกรรมของ pSemi กล่าว “EMX Designer ตอบสนองความต้องการของเราอย่างเต็มที่สำหรับความยืดหยุ่น ความเร็ว และความแม่นยำของ PCell ซึ่งผสานรวมเข้ากับโฟลว์การออกแบบ Cadence อย่างลงตัว และจะปรับปรุงประสิทธิภาพการทำงานของทีมออกแบบของเรา”
“โซลูชัน EMX Designer ใหม่เพิ่มเทคโนโลยีหลักให้กับ Custom ชั้นนำของเรา IC ขั้นตอนการออกแบบ ส่งมอบ PCells ของอุปกรณ์แบบพาสซีฟที่ยืดหยุ่นที่สุดในเวลาที่ทำลายสถิติ ในขณะเดียวกันก็ช่วยเพิ่มผลผลิตได้อย่างมาก” Tom Beckley รองประธานอาวุโสและผู้จัดการทั่วไป Custom IC and PCB Group ของ Cadence กล่าว “เรามีความยินดีที่จะนำเสนอแพลตฟอร์มการออกแบบ IC ที่ขยายตัว สมบูรณ์ มีความแตกต่างสูง และมีประสิทธิภาพแก่ลูกค้าของเรา ซึ่งระบุถึงช่วงเริ่มต้นของการออกแบบ ไปจนถึงการลงนามและปิดกิจการ”
“การใช้โซลูชัน EMX Designer ใหม่ของ Cadence ทำให้ทีมของเราสามารถปรับปรุงประสิทธิภาพการทำงานและลดเวลาของวงจรการออกแบบได้” Peter Gammel ซีอีโอของ Ubilite กล่าว “เราสามารถสังเคราะห์อุปกรณ์แบบพาสซีฟที่มีประสิทธิภาพดีขึ้น และในขณะเดียวกันก็ประหยัดพื้นที่ซิลิกอนได้ 20% สำหรับโหนดกระบวนการขั้นสูงที่เราใช้กับโซลูชันใหม่ EMX Designer นำเสนอคลังอุปกรณ์แบบพาสซีฟที่หลากหลายแก่เรา ให้ผลลัพธ์ที่แม่นยำอย่างยิ่งในทุกโหนดกระบวนการด้วยความเร็วที่รวดเร็วอย่างเหลือเชื่อ”
โซลูชันนี้เชื่อมต่อกับ EMX 3D Planar Solver ของบริษัทได้อย่างราบรื่น และสนับสนุนกลยุทธ์การออกแบบระบบอัจฉริยะเพิ่มเติม ซึ่งช่วยให้การออกแบบ SoC เป็นเลิศและนวัตกรรมระบบ
ดูเพิ่มเติม : โมดูล IGBT | จอแสดงผล LCD | ชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์