Es wird der erste Einsatz von EUV-Werkzeugen in Japan sein und es Hiroshima ermöglichen, die DRAMs der neuesten Generation von Micron herzustellen, die es als seinen 1-Gamma-Knoten bezeichnet und ab 2025 hochgefahren wird.
„Die Betriebe von Micron in Hiroshima waren in der Vergangenheit von zentraler Bedeutung für die Entwicklung und Produktion mehrerer branchenführender Speichertechnologien 
„Die heutige Ankündigung zwischen Micron und Japan, in Hiroshima 1-Gamma-Speicher zu produzieren, ist ein großer Schritt vorwärts zur Sicherung Halbleiter Lieferketten“, sagte Rahm Emanuel, US-Botschafter in Japan. „Diese Partnerschaft zeigt, wie Verbündete durch die Zusammenarbeit wirtschaftliche Chancen und Sicherheit in Spitzentechnologien schaffen können.“
„Micron ist das einzige Unternehmen, das DRAM in Japan herstellt, und spielt eine entscheidende Rolle dabei, das Tempo nicht nur für die globale DRAM-Industrie, sondern auch für unsere Entwicklung vorzugeben Halbleiter Ökosystem“, sagte Satoshi Nohara, METI-Generaldirektor des Commerce and Information Policy Bureau. „Wir freuen uns, dass unsere Zusammenarbeit mit Micron in Hiroshima Fuß fasst und hochmodernes EUV auf japanischem Boden eingeführt wird. Dies wird nicht nur das Talent und die Infrastruktur unseres Halbleiter-Ökosystems vertiefen und fördern, sondern auch exponentielles Wachstum und Chancen für unsere digitale Wirtschaft eröffnen.“
Mit mehr als 4,000 Ingenieuren und Technikern in Japan engagiert sich Micron für die Förderung der Personalentwicklung und des Halbleiter-Ökosystems in Japan und hat in den letzten fünf Jahren mehr als 1,500 neue Mitarbeiter in Japan eingestellt.
Micron liefert etwa ein Drittel des in Japan verwendeten DRAM.
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