Será o primeiro uso de ferramentas EUV no Japão e permitirá que o Hiroshima faça DRAMs de última geração da Micron, que chama de nó 1-gama, que será aumentado a partir de 2025.
“As operações da Micron em Hiroshima têm sido fundamentais para o desenvolvimento e produção de várias tecnologias líderes do setor para memória nos últimos anos. 
“O anúncio de hoje entre a Micron e o Japão para produzir memória 1-gama em Hiroshima é um grande passo para garantir Semicondutores cadeias de suprimentos”, disse Rahm Emanuel, Embaixador dos Estados Unidos no Japão. “Esta parceria demonstra como os aliados, ao trabalharem juntos, podem criar oportunidades econômicas e segurança em tecnologias de ponta.”
“A Micron é a única empresa que fabrica DRAM no Japão e é fundamental para definir o ritmo não apenas para a indústria global de DRAM, mas também para o nosso desenvolvimento. Semicondutor ecossistema”, disse Satoshi Nohara, Diretor Geral do METI do Departamento de Política de Comércio e Informação. “Temos o prazer de ver a nossa colaboração com a Micron criar raízes em Hiroshima com o EUV de última geração a ser introduzido em solo japonês. Isto não só aprofundará e promoverá o talento e a infraestrutura do nosso ecossistema de semicondutores, como também desbloqueará um crescimento exponencial e oportunidades para a nossa economia digital.”
Com mais de 4,000 engenheiros e técnicos no Japão, a Micron está empenhada em promover o desenvolvimento da força de trabalho e o ecossistema de semicondutores no Japão e, nos últimos cinco anos, contratou mais de 1,500 novos funcionários no Japão.
A Micron fornece aproximadamente um terço da DRAM que o Japão usa.
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