Laut Nikkei Asia gab Sumitomo Chemical am 31. August bekannt, dass das Unternehmen plant, in seinem Werk in Osaka in Japan ArF- und EUV-Photoresist-Produktionslinien hinzuzufügen, um die Produktion zu erweitern, um den Anforderungen des Chipmarktes gerecht zu werden. Die Produktion soll im ersten Halbjahr 2023 aufgenommen werden.
Gleichzeitig wird Dongwoo Fine-Chem, eine hundertprozentige Tochtergesellschaft von Sumitomo Chemical in Iksan, Südkorea, auch einen Fotoresist-Produktionsraum für Immersions-ArF bauen, der voraussichtlich im ersten Halbjahr 2024 die Produktion aufnehmen wird.
Laut Sumitomo wird sich die gesamte Produktionskapazität von ArF-Fotolack bis 2024 im Vergleich zu 1.5 um das 2019-Fache erhöhen.