ความท้าทายใหญ่ XNUMX ใน XNUMX ประการที่ระบุมุ่งเน้นไปที่สิ่งต่อไปนี้: การพัฒนามาตรวิทยาเพื่อความบริสุทธิ์และคุณสมบัติของวัสดุ การผลิตไมโครอิเล็กทรอนิกส์ในอนาคต บรรจุภัณฑ์ขั้นสูงเพื่อรวมส่วนประกอบที่ผลิตแยกกัน เพิ่มความปลอดภัยของอุปกรณ์ในห่วงโซ่อุปทาน ปรับปรุงเครื่องมือสำหรับการสร้างแบบจำลองและการจำลอง สารกึ่งตัวนำ วัสดุ การออกแบบ และส่วนประกอบ และปรับปรุงกระบวนการผลิต ความท้าทายขั้นสุดท้ายเน้นย้ำถึงความจำเป็นในการสร้างมาตรฐานวัสดุ กระบวนการ และอุปกรณ์ใหม่
“เราได้รับการตอบรับอย่างกว้างขวางจากผู้มีส่วนได้ส่วนเสียทั่วทั้งอุตสาหกรรม สถาบันการศึกษา และรัฐบาล ซึ่งจะช่วยให้เราจัดหาบริการการวัด มาตรฐาน วิธีการผลิต และเตียงทดสอบที่จำเป็นอย่างเร่งด่วน” Laurie Locascio ผู้อำนวยการ NIST กล่าว
NIST เป็นห้องปฏิบัติการระดับชาติเพียงแห่งเดียวที่ทุ่มเทให้กับวิทยาศาสตร์การวัดหรือมาตรวิทยา และกฎหมาย CHIPS และวิทยาศาสตร์ที่ประกาศใช้เมื่อเร็วๆ นี้ เรียกร้องให้ NIST ดำเนินการวิจัยและพัฒนามาตรวิทยาที่สำคัญ (R&D) เพื่อสนับสนุนห้องปฏิบัติการในประเทศ สารกึ่งตัวนำ อุตสาหกรรมเพื่อให้เกิดความก้าวหน้าและความก้าวหน้าสำหรับไมโครอิเล็กทรอนิกส์รุ่นต่อไป
จำเป็นต้องมีมาตรวิทยาในทุกขั้นตอนของเซมิคอนดักเตอร์ เทคโนโลยี การพัฒนา ตั้งแต่การวิจัยและพัฒนาขั้นพื้นฐานและประยุกต์ในห้องปฏิบัติการไปจนถึงการสาธิตการพิสูจน์แนวคิด การสร้างต้นแบบในขนาด การผลิตในโรงงาน การประกอบและบรรจุภัณฑ์ และการตรวจสอบประสิทธิภาพก่อนการใช้งานขั้นสุดท้าย
รายงานที่เผยแพร่ในวันนี้ดึงข้อมูลที่ได้รับจากชุดการประชุมเชิงปฏิบัติการมาตรวิทยาเซมิคอนดักเตอร์ที่จัดโดย NIST ซึ่งมีผู้เข้าร่วมมากกว่า 800 คนจากภาคอุตสาหกรรม สถาบันการศึกษา และรัฐบาล ข้อมูลยังถูกรวบรวมผ่านคำขอข้อมูลของกระทรวงพาณิชย์และข้อเสนอแนะโดยตรงจากอุตสาหกรรม
รายงานอยู่ที่:
“โอกาสเชิงกลยุทธ์สำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ของสหรัฐฯ: การอำนวยความสะดวกในการเป็นผู้นำและความสามารถในการแข่งขันของสหรัฐฯ ผ่านความก้าวหน้าด้านการวัดและมาตรฐาน” สามารถ