قامت Cadence Design Systems بتحسين التدفق الكامل للإصدار الرقمي 20.1 من Cadence لتقنيات المعالجة المتقدمة من Samsung Foundry حتى 4 نانومتر. ضمن هذا التعاون ، يمكن للمصممين استخدام أدوات الإيقاع لتوفير القوة والأداء والمساحة المثلى وإنتاج سيليكون دقيق من الدرجة الأولى لتطبيقات الحوسبة فائقة النطاق.
يوفر الحل إمكانات مثالية لتقنيات العمليات المتقدمة من سامسونج. على سبيل المثال، iSpatial التكنلوجيا يتيح الانتقال السلس من حل Genus Synthesis إلى نظام تنفيذ Innovus باستخدام واجهة مستخدم وقاعدة بيانات مشتركة. تسهل إمكانات تعلم الآلة على المستخدمين استخدام تصميماتهم الحالية لتدريب تقنية تحسين GigaOpt لتقليل هوامش التصميم مقابل تدفقات المكان والمسار التقليدية.
قال Sangyun Kim ، نائب رئيس فريق تكنولوجيا التصميم المسبك في Samsung Electronics: "مع الابتكار المستمر في الحوسبة فائقة النطاقات والقيادة الذاتية ، هناك طلب متزايد باستمرار على قدرة HPC". "من خلال الجمع بين أحدث عقد عملية متقدمة من Samsung Foundry مع التدفق الرقمي الكامل لـ Cadence 20.1 ، يمكن لعملائنا تحقيق أهداف التصميم الخاصة بهم بسرعة وكفاءة."
قال مايكل جاكسون ، نائب رئيس الشركة ، R&D في Digital & Signoff Group في Cadence: "إن التدفق الرقمي المحسّن حديثًا يجعل الأمر أكثر بساطة للعملاء لتحقيق أهداف اتفاقية شراء الطاقة باستخدام تقنيات المعالجة المتقدمة من Samsung Foundry". "من خلال التوسع في تعاوننا الطويل مع Samsung Foundry ، يمكن للمصممين اعتماد منهجيات HPC المعتمدة من Samsung Foundry بسرعة لتقديم أداء استثنائي من السيليكون في الوقت المحدد."