Cadence Design Systems a optimisé le débit complet Cadence Digital 20.1 pour les technologies de processus avancées de Samsung Foundry jusqu'à 4 nm. Dans le cadre de la collaboration, les concepteurs peuvent utiliser les outils Cadence pour fournir une puissance, des performances et une surface optimales et produire du silicium de premier passage précis pour les applications informatiques à grande échelle.
La solution offre des fonctionnalités idéales pour les technologies de processus avancées de Samsung. Par exemple, l'iSpatial sans souci permet une transition transparente de la solution Genus Synthesis au système de mise en œuvre Innovus en utilisant une interface utilisateur et une base de données communes. Les capacités de ML permettent aux utilisateurs d'utiliser leurs conceptions existantes pour former la technologie d'optimisation GigaOpt afin de réduire les marges de conception par rapport aux flux de placement et d'itinéraire traditionnels.
«Avec l'innovation continue dans le domaine de l'informatique hyperscale et de la conduite autonome, la demande de capacité HPC ne cesse de croître», a déclaré Sangyun Kim, vice-président de l'équipe Foundry Design Technology de Samsung Electronics. «En combinant les derniers nœuds de processus avancés Samsung Foundry avec le flux complet numérique Cadence 20.1, nos clients peuvent atteindre leurs objectifs de conception rapidement et efficacement.»
«Grâce au flux numérique Cadence nouvellement optimisé, il est beaucoup plus simple pour les clients d'atteindre les objectifs de PPA en utilisant les technologies de processus avancées de Samsung Foundry», a déclaré Michael Jackson, vice-président de la R&D du groupe Digital & Signoff chez Cadence. «En développant notre collaboration de longue date avec Samsung Foundry, les concepteurs peuvent rapidement adopter les méthodologies HPC validées de Samsung Foundry pour offrir des performances de silicium exceptionnelles dans les délais.»