Компания Cadence Design Systems оптимизировала полный поток Cadence digital 20.1 для передовых технологических процессов Samsung Foundry до 4 нм. В рамках сотрудничества разработчики могут использовать инструменты Cadence для обеспечения оптимальной мощности, производительности и площади, а также для создания точных микросхем первого прохода для гипермасштабируемых вычислительных приложений.
Решение предоставляет возможности, которые идеально подходят для передовых технологий Samsung. Например, iSpatial technology обеспечивает плавный переход от решения Genus Synthesis к системе внедрения Innovus, используя общий пользовательский интерфейс и базу данных. Возможности машинного обучения позволяют пользователям использовать существующие проекты для обучения технологии оптимизации GigaOpt, позволяющей снизить рентабельность проектирования по сравнению с традиционными потоками размещения и маршрутизации.
«В связи с постоянными инновациями в области гипермасштабируемых вычислений и автономного вождения, потребность в мощностях высокопроизводительных вычислений постоянно растет, - сказал Сангюн Ким, вице-президент группы технологий литейного дизайна в Samsung Electronics. «Объединив новейшие узлы передовых процессов Samsung Foundry с цифровой полнопоточной системой Cadence 20.1, наши клиенты могут быстро и эффективно достичь своих проектных целей».
«Недавно оптимизированный цифровой поток Cadence значительно упрощает для клиентов достижение целей PPA с использованием передовых технологических процессов Samsung Foundry, - сказал Майкл Джексон, корпоративный вице-президент по исследованиям и разработкам группы Digital & Signoff Group в Cadence. «Расширяя наше многолетнее сотрудничество с Samsung Foundry, дизайнеры могут быстро применять проверенные методологии HPC от Samsung Foundry, чтобы своевременно обеспечивать исключительную производительность микросхем».