Weebit skaliert ReRAM auf 28nm

Weebit Nano und sein Entwicklungspartner CEA-Leti haben Parameter auf Produktionsebene des Resistiven Direktzugriffsspeichers (ReRAM) von Weebit demonstriert. Technologie in einem 28-nm-Prozess.

Diese Demonstration ist ein wichtiger Schritt zur Produktion von eingebettetem nichtflüchtigem Speicher (NVM) für Anwendungen wie KI, autonomes Fahren, 5G und fortschrittliche Internet-of-Things (IoT)-Prozessoren.

Weebit und CEA-Leti, das französische Forschungsinstitut, haben gemeinsam funktionale 1 Megabit (Mb) ReRAM-Arrays in einer 28-nm-Prozesstechnologie auf 300-mm-Wafern getestet, charakterisiert und gemessen, dem größten Durchmesser, der in der Massenproduktion verwendet wird und der Standard in fortschrittlichen Knoten ist.

Die 28-nm-ReRAM-Arrays werden mit einem kleinen und energieeffizienten Schaltgerät implementiert, das die Niedrigenergie- und Niederspannungsfähigkeiten des 28-nm-Prozesses voll ausnutzt und eine bis zu 4-fache Erhöhung der Speicherdichte ermöglicht. Testen von Weebits One-Transistor-einer-Widerstand (1T1R) ReRAM-Arrays, eingebettet in 28 nm Fully Depleted Silicon on Insulator (FDSOI), konnten neben anderen Qualitätsparametern auf Produktionsebene ihre Robustheit mit sehr guter Ausdauer und Datenerhaltung unter Beweis stellen.

Diese erfolgreiche Demonstration der Zuverlässigkeit und Robustheit bei 28 nm wird als starke Positionierung der ReRAM-Technologie von Weebit als Schlüsseltechnologie in NVM für fortschrittliche Prozesse angesehen, bei denen es technisch oder wirtschaftlich nicht mehr möglich ist, Flash-Speichertechnologie einzubetten.

Coby Hanoch, CEO von Weebit, kommentierte: „Weebit hat durch seine enge Partnerschaft mit CEA-Leti bereits die bedeutenden Vorteile seiner ReRAM-Technologie bei größeren Geometrien demonstriert, und wir haben jetzt gezeigt, dass wir diese Technologie erfolgreich auf 28 nm herunterskalieren können. Mark Liu, Vorsitzender von TSMC, der weltgrößten Fabrik, nannte 28nm kürzlich den „Sweet Spot für unsere Embedded-Speicheranwendungen“, da die 28-nm-Geometrie in einer Reihe von Anwendungen weit verbreitet ist und als Tor zu den fortschrittlichsten Prozessknoten gilt.“